| 相关关键词：晶片 , 中国 , 奈米 , 可生产 , 国产 , 突破 , 黄仁勋 , 台积电 , 落后 |
| 相关概念：纳米及以下晶片 , 中国研发可生产 , 纳米晶片光刻技术 , 奈米及以下晶片 , 中国研发出国产 , 辉达黄仁勋 , 台积电晶片 , 半导体仅落后台积电 , 中国半导体实力 |
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| 中国传成功自研DUV光刻机 可生产8纳米晶片 ＠ 2024-09-17T |
| 中国工业和信息化部官网近日一项通知显示，中国已取得重大技术突破，研发出深紫外光（DUV）光刻机，可生产8纳米及以下晶片；若果属实，日后或能减少被“卡... |
| 关键词：晶片 中国 奈米 可生产 |
| 概念：纳米及以下晶片 , 中国研发可生产 |
| 可生产8奈米晶片...中自制DUV大突破 将冲破美围堵 ＠ 2024-09-17T |
| 中国工信部公布一项通知显示，中国已取得技术突破，研发出深紫外光曝光机（DUV），可生产8奈米及以下晶片，目前正在推广应用... |
| 关键词：中国 晶片 可生产 奈米 国产 突破 |
| 概念：纳米晶片光刻技术 , 奈米及以下晶片 |
| 申请专利：中国7纳米芯片光刻技术取得突破 ＠ 2024-09-16T |
| 中国在先进芯片制造领域正逐渐缩小与西方的差距。位于上海的微电子装备（集团）股份有限公司公布了一系列制造7纳米及以下芯片关键能力的专利。 |
| 关键词：中国 可生产 奈米 突破 国产 |
| 概念：纳米及以下晶片 , 中国研发可生产 |
| 中国研发出国产DUV曝光机 可产8纳米及以下晶片 ＠ 2024-09-16T |
| 内地工信部近日宣布，研发出首台国产深紫外光曝光机（DUV），可生产8纳米及以下晶片，目前正在推广应用。 相关新闻: 荷兰ASML获政府许可年底前继续向中国... |
| 关键词：国产 中国 突破 可生产 |
| 概念：奈米及以下晶片 , 中国研发出国产 |
| 黄仁勋说了些甚么？ - 石镜泉 缸边随笔 - 财智 - 生活 ＠ 2024-09-16T |
| 前两天横跨24小时内，美国在政、经及科技界，有3件大事发生：总统候选人辩论、公布8月CPI，以及英伟达(NVDA)的黄仁勋出席高盛的科技会议（图一），而黄仁勋的... |
| 关键词：黄仁勋 台积电 |
| 概念： |
| 黄仁勋：Nvidia 可弃用台积电 地缘政治增供应链中断风险 ＠ 2024-09-15T |
| Nvidia 英伟达行政总裁黄仁勋近日在科技会议上表示，虽然公司目前高度依赖台积电生产关键晶片，但为应对地缘政治带来的不确定性，公司已准备将订单转交... |
| 关键词：黄仁勋 台积电 |
| 概念：辉达黄仁勋 , 台积电晶片 |
| 黄仁勋一席话引爆美股！英伟达一夜暴涨1.54万亿，说了些什么？ ＠ 2024-09-14T |
| 黄仁勋一席话，让资本市场风云再起。美股市场在经历了盘初的短暂低迷后，上演了一场惊心动魄的V型大反转，最终三大指数集体收涨，纳指更是以2.17% |
| 关键词：黄仁勋 台积电 |
| 概念：辉达黄仁勋 |
| 即时新闻- 国际财经- 黄仁勋:辉达Blackwell晶片供应缺客户感挫折 ＠ 2024-09-13T |
| 辉达(Nvidia)行政总裁黄仁勋(Jensen Huang)表示，旗下人工智能(AI)晶片Blackwell的供应量增长有限，这令部分客户倍感挫折，集团与客户的关系变得紧张。 |
| 关键词：黄仁勋 台积电 |
| 概念：台积电晶片 |
| 英伟达黄仁勋：供应短缺令客户很焦急 ＠ 2024-09-13T |
| 【有线新闻】全球企业都非常渴求晶片，半导体龙头英伟达指供应短缺令客户很焦急。 英伟达行政总裁黄仁勋在高盛论坛上表示，所有客户都希望可以成为第一... |
| 关键词：黄仁勋 台积电 |
| 概念：台积电晶片 |
| 日媒：中国晶片实力已落后台积电(TSM.US)3年财经新闻Financial News ＠ 2024-08-29T |
| 《日本经济新闻》报道，日本半导体调查企业TechanaLye社长清水洋治表示，中国晶片实力已达到落后台积电(TSM.US)3年水平。 报道对比今年4月上市华为... |
| 关键词：中国 台积电 落后 晶片 |
| 概念：半导体仅落后台积电 , 中国半导体实力 |