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| 关键词：晶片 中国 奈米 可生产 |
| 概念：纳米及以下晶片 , 中国研发可生产 |
| 中国工业和信息化部官网近日一项通知显示，中国已取得重大技术突破，研发出深紫外光（DUV）光刻机，可生产8纳米及以下晶片；若果属实，日后或能减少被“卡... |
| 内地工信部近日宣布，研发出首台国产深紫外光曝光机（DUV），可生产8纳米及以下晶片，目前正在推广应用。 相关新闻: 荷兰ASML获政府许可年底前继续向中国... |
| 人民网北京9月15日电（方经纶）据工业和信息化部官网消息，为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的... |
| 【彭博】0.0 中国称，在自主晶片制造设备的开发方面取得了突破，朝着克服美国遏制其晶片雄心的制裁行动迈出重要一步。 中国工业和信息化部本月在一份公告中称，建议国家... |
| 陈丽珠／核稿编辑〔财经频道／综合报导〕中国工信部9月初公布的“首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）”的通知中，列出全新自制DUV曝光机，... |
| 差不多一年前，我就说麒麟9000S是用国产光刻机造的。理由很简单，ASML光刻机含美国技术，不能用于生产麒麟5G芯片。若是偷偷使用了ASML光刻机，生产了千万... |
| 综合港媒报导，中国工信部近日宣布，研发出首台国产深紫外光曝光机（DUV），可生产8 奈米以下晶片。 据中国工信部“首台（套）重大技术装备推广应用指导... |
| 在美国、荷兰相继收紧半导体制造设备的出口管制措施之际，中国工信部近日公布一项通知显示，中国已取得重大技术突破，研发出深紫外光曝光机（DUV），可生产8... |
| Newtalk新闻在中国工信部近期公布的最新文件中，出现了一台全新的中国自制DUV 曝光机，公开数据显示该曝光机的分辨率≦ 65 奈米... |
| 中国大陆在先进晶片制造领域正逐渐缩小与西方的差距。外媒报导，上海微电子装备（集团）股份有限公司日前公布了一系列制造7奈米以下晶片关键能力的专利，... |