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申请专利:中国7纳米芯片光刻技术取得突破 @ 2024-09-16T 返回 新闻热点
关键词:中国 可生产 奈米 突破 国产
概念:纳米及以下晶片 , 中国研发可生产
中国在先进芯片制造领域正逐渐缩小与西方的差距。位于上海的微电子装备(集团)股份有限公司公布了一系列制造7纳米及以下芯片关键能力的专利。
人民网北京9月15日电(方经纶)据工业和信息化部官网消息,为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的...
内地工信部近日宣布,研发出首台国产深紫外光曝光机(DUV),可生产8纳米及以下晶片,目前正在推广应用。 相关新闻: 荷兰ASML获政府许可年底前继续向中国...
综合港媒报导,中国工信部近日宣布,研发出首台国产深紫外光曝光机(DUV),可生产8 奈米以下晶片。 据中国工信部“首台(套)重大技术装备推广应用指导...
中国大陆半导体制造设备业者上海微电子装备(集团)公司,于9月10日公布一项极紫外光(EUV)技术专利,凸显尽管中国半导体制造业面临美国升级晶片技术出口...
差不多一年前,我就说麒麟9000S是用国产光刻机造的。理由很简单,ASML光刻机含美国技术,不能用于生产麒麟5G芯片。若是偷偷使用了ASML光刻机,生产了千万...
中国在先进晶片制造领域正逐渐缩小与西方的差距。位于上海的微电子装备(集团)股份有限公司公布了一系列制造7纳米及以下晶片关键能力的专利。
大陆半导体国产技术传出新突破!大陆工信部9月初公布的“首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)”的通知中,列出可用于生产65奈米或以下晶片...
中国工业和信息化部近日在官方网站发布了“首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)”的通知。该目录涵盖了多项国家重点发展的技术装备,...
中国工业和信息化部官网近日一项通知显示,中国已取得重大技术突破,研发出深紫外光(DUV)光刻机,可生产8纳米及以下晶片;若果属实,日后或能减少被“卡...

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