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| 关键词：中国 晶片 可生产 奈米 国产 突破 |
| 概念：奈米及以下晶片 , 纳米晶片光刻技术 |
| 中国工信部公布一项通知显示，中国已取得技术突破，研发出深紫外光曝光机（DUV），可生产8奈米及以下晶片，目前正在推广应用... |
| 内地工信部近日宣布，研发出首台国产深紫外光曝光机（DUV），可生产8纳米及以下晶片，目前正在推广应用。 相关新闻: |
| 人民网北京9月15日电（方经纶）据工业和信息化部官网消息，为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的... |
| 综合港媒报导，中国工信部近日宣布，研发出首台国产深紫外光曝光机（DUV），可生产8 奈米以下晶片。 据中国工信部“首台（套）重大技术装备推广应用指导... |
| 中国大陆半导体制造设备业者上海微电子装备（集团）公司，于9月10日公布一项极紫外光（EUV）技术专利，凸显尽管中国半导体制造业面临美国升级晶片技术出口... |
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| 很正常，别说汽车工厂了 昨天中国工信部证实了中国的国产光刻机出来了 中国实现国产DUV曝光机可生产8奈米及以下晶片 |
| 中国工业和信息化部官网近日一项通知显示，中国已取得重大技术突破，研发出深紫外光（DUV）光刻机，可生产8纳米及以下晶片；若果属实，日后或能减少被“卡... |
| 大陆半导体国产技术传出新突破！大陆工信部9月初公布的“首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）”的通知中，列出可用于生产65奈米或以下晶片... |
| 陈丽珠／核稿编辑〔财经频道／综合报导〕中国工信部9月初公布的“首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）”的通知中，列出全新自制DUV曝光机，... |