| 相关关键词：手机 , 设计 , MacBook Pro , iPhone 12 , 瀑布 , 概念手机 , 四曲 , 曲面 , 小米发 , 萤幕 , 小米 , 无孔 , 球鞋 , 特斯拉 , 微软 , 晶片 , 英特尔 , 概念 , 科技新闻 , 科技 , 处理器 , 发布 , 三倍 , 效能提 , 希捷 , 三星 |
| 相关概念：手机首次于中国市场占比超越华为 , 外观设计公布 , 小米发布首款四曲面瀑布屏概念手机 , 无孔化设计 , 小米发表四边瀑布萤幕概念手机 , 中国设计总监 , 特斯拉电动车 , 电脑晶片英特尔 , 自己设计晶片 , 联手日本设计工作室推概念手机 , 科技发布 , 光刻机设计 , 台积三星 |
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| Oppo X 2021 卷轴萤幕概念手机香港动手玩｜Engadget 中文版 ＠ 2021-03-10T16: |
| 早已说明不会量产的Oppo X 2021 卷轴萤幕概念手机近日居然来到香港，于是Engadget 就跑去搞机！ |
| 关键词：手机 设计 |
| 概念：手机首次于中国市场占比超越华为 , 外观设计公布 |
| Apple 将为部分无法充电超过1% 的MacBook Pro 免费更换电池 ＠ 2021-02-10T16: |
| Engadget早些时候Apple 发布公告证实，有“极少数”2016 年和2017 年产的MacBook Pro 电脑可能存在无法充电超过1% 的问题。这些装置的电池健康度状态会 ... |
| 关键词：MacBook Pro 设计 iPhone 12 |
| 概念： |
| 小米四曲面瀑布屏概念手机 一体无孔机身 + 四边88°曲面 ＠ 2021-02-07T20: |
| 曲面萤幕手机越来越常见，小米近日便正式发布首款采用四曲面瀑布萤幕的概念手机影片。从影片可见，萤幕四边均采用88° 超曲面设计，边框几乎全部由萤幕 ... |
| 关键词：瀑布 概念手机 四曲 曲面 小米发 萤幕 |
| 概念：小米发布首款四曲面瀑布屏概念手机 , 无孔化设计 |
| 小米(01810.HK)发布首款四曲瀑布屏概念手机 ＠ 2021-02-06T00: |
| 小米(01810.HK)发布首款四曲瀑布屏概念手机，该手机屏幕采用四边88度角超曲面设计，边框几乎全部由屏幕取代，整机一体无孔化设计，取消所有按键与开孔， ... |
| 关键词：小米 概念手机 瀑布 曲面 萤幕 无孔 |
| 概念：小米发布首款四曲面瀑布屏概念手机 , 小米发表四边瀑布萤幕概念手机 |
| 鞋迷驻足 · 5 款今周务必注目之球鞋 ＠ 2021-01-18T08: |
| 鞋迷驻足· 5 款今周务必注目之球鞋: adidas 最新旗舰跑鞋UltraBOOST 2021 正式登场，Nike 亦有多款新作到来。 |
| 关键词：球鞋 |
| 概念： |
| 特斯拉还能追高？分析师：潜力如刚推出iPhone 的苹果 ＠ 2021-01-13T04: |
| 2020 年，电动车龙头特斯拉（Tesla）成为市场追逐的热门大飙股，全年涨幅高达743%。进入2021 年，特斯拉股价涨幅未停歇，许多投资人想问，特斯拉还能追高 ... |
| 关键词：特斯拉 |
| 概念：中国设计总监 , 特斯拉电动车 |
| Microsoft 有意仿效 Apple 自行研发 ARM 处理器 ＠ 2020-12-21T08: |
| 在今年年中Apple 宣布会推出自家ARM 处理器，使用M1 处理器的Mac 电脑和MacBook 笔电早前亦已经上市。原来Microsoft 亦打算研发自家ARM 处理器，并且 ... |
| 关键词：微软 晶片 英特尔 |
| 概念：电脑晶片英特尔 , 自己设计晶片 |
| Oppo 与日本设计公司 Nendo 合作的概念“滑盖手机”有三种不同的萤幕大小 ＠ 2020-12-17T16: |
| Oppo 和日本设计公司Nendo 合作，打造了一只概念的“滑盖手机（slide-phone）”。虽然名为“滑盖”，其实它更多是支折叠手机，特色在于可以选择三种不同 ... |
| 关键词：手机 概念 科技新闻 |
| 概念：联手日本设计工作室推概念手机 |
| 【中国芯片】赛昉科技发布RISC-V处理器全球性能最强助打破外国垄断- 香港经济日报- 中国频道- 经济脉搏 ＠ 2020-12-15T12: |
| 上海赛昉科技CEO徐滔在中国集成电路设计业2020年会上做主题演讲，发布了该公司基于RISC-V的全球领先的高性能处理器内核天枢系列处理器。业界形容为中国 ... |
| 关键词：科技 处理器 发布 晶片 三倍 效能提 设计 希捷 |
| 概念：科技发布 |
| Sub 1nm 来了!!摩尔定律停不下来!! ASML 已完成1nm 制程EUV 光刻机设计 ＠ 2020-12-03T08: |
| 甫结束的ITF Japan 2020 大会上， 比利时半导体公司imec 公布了与ASML 合作研发的新一代高解析度EUV 光刻技术( High NA EUV Lithography) 的成果， ... |
| 关键词：三星 |
| 概念：光刻机设计 , 台积三星 |