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关键词:三星 |
概念:台积三星 , 光刻机设计 |
甫结束的ITF Japan 2020 大会上, 比利时半导体公司imec 公布了与ASML 合作研发的新一代高解析度EUV 光刻技术( High NA EUV Lithography) 的成果, ... |
三星电子副会长李在镕10月访欧,拜会全球唯一极紫外光(EUV)微影设备供应商艾司摩尔(ASML)执行长PeterWennink等人后,韩媒报导Wennink上周也赴韩 ... |
半导体微影设备大厂ASML搭上极紫外光(EUV)需求,2021年相关设备产能将上看45~50台。设备业者传出,台积电就抢下当中的30台,剩下的才由英特尔、 ... |
台股盘前有八大重点,包括三星盘算抢先台积电取得新一代EUV 设备,郭台铭率泛鸿海成员与桃园航空城签MOU,以及鸿海研究院量子电脑论坛即将登场,以下是 ... |
全球半导体微影技术龙头荷商ASML高阶主管动态备受外界关注,近日南韩媒体传出ASML执行长Peter Wennink ... |
三星全力冲刺先进制程,紧追台积电之际,传出关键设备极紫外光(EUV)机台独家制造商艾司摩尔(ASML)执行长Peter ... |
三星电子近期为争抢极紫外光(EUV)设备,高层频频传出密访ASML。继三星电子副会长李在镕(Lee Jae-yong)10月亲自赴荷兰拜会ASML执行长Peter ... |
记者洪友芳/新竹报导〕南韩媒体报导,全球唯一极紫外(EUV)微影设备制造商艾司摩尔(ASML)执行长Peter Wennink上星期参访三星电子,讨论EUV设备 ... |
ASML对于3nm、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路线规划,且1nm时代的光刻机体积将增大不少。 |
继三星集团副会长李在镕10月亲赴极紫外光刻机(EUV)大厂艾司摩尔(ASML)荷兰总部拜访后;韩媒报导,艾司摩尔高层也礼尚往来,于上周访问三星,盼促成 ... |