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| Keyword：三星 |
| Concept：台積三星 , 光刻機設計 |
| 甫結束的ITF Japan 2020 大會上， 比利時半導體公司imec 公布了與ASML 合作研發的新一代高解析度EUV 光刻技術( High NA EUV Lithography) 的成果， ... |
| 對於晶片來說，決定晶片性能高低的大部分因素來源於加工設備——光刻機，其發展決定著未來電子科技產品性能... |
| 《彭博》引述南韓《先驅商業報》（Herald Business Newspaper）報導，產業人士指出三星電子（SAMSUNG ELECTRONICS）正在與荷蘭晶片設備商ASML洽談 ... |
| 三星全力沖刺先進制程，緊追台積電之際，傳出關鍵設備極紫外光（EUV）機台獨家制造商艾司摩爾（ASML）執行長Peter ... |
| 台股盤前有八大重點，包括三星盤算搶先台積電取得新一代EUV 設備，郭台銘率泛鴻海成員與桃園航空城簽MOU，以及鴻海研究院量子電腦論壇即將登場，以下是 ... |
| 半導體微影設備大廠ASML搭上極紫外光（EUV）需求，2021年相關設備產能將上看45～50台。設備業者傳出，台積電就搶下當中的30台，剩下的才由英特爾、 ... |
| 三星電子近期為爭搶極紫外光（EUV）設備，高層頻頻傳出密訪ASML。繼三星電子副會長李在鎔（Lee Jae-yong）10月親自赴荷蘭拜會ASML執行長Peter ... |
| 南韓財經媒體Business Korea今天報導，全球唯一極紫外光刻機（EUV）制造商艾司摩爾（ASML）高層主管上周訪... |
| 記者洪友芳／新竹報導〕南韓媒體報導，全球唯一極紫外（EUV）微影設備制造商艾司摩爾（ASML）執行長Peter Wennink上星期參訪三星電子，討論EUV設備 ... |
| ASML對於3nm、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃，且1nm時代的光刻機體積將增大不少。 |
