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| 關鍵詞：台積電 設備 |
| 概念：台積電高層 , 設備亮相 |
| 台積電業務開發資深副總裁張曉強最新表示，台積電即將推出的A14制程仍未看到非要用ASML高數值孔徑（high-NA）極紫外光（EUV）微影設備的理由，台積電仍在... |
| MoneyDJ新聞2025-05-28 08:53:53 記者郭妍希報導台積電(2330)高層透露，仍在評估未來制程是否要使用荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾(ASML Holding N.V.)... |
| 台積電（2330）對荷蘭設備大廠艾司摩爾（ASML）最新一代高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備的應用仍持保留態度，盡管該機台具備強大效能，但單台造價... |
| 台積電高層表示，尚未決定是否采用ASML的高數值孔徑機器，並強調現有技術仍具潛力。 在最新的會議上，台積電（NYSE: TSM）高層Kevin Zhang透露，公司內部... |
| 《CNBC》周四(22 日) 報導，荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)(ASML.US) 耗時近十年打造的新一代高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV)，正在悄悄重塑... |
| 光刻技術是芯片制造商的核心所在，而荷蘭公司阿斯麥（ASML）是目前全球唯一一家生產極紫外（EUV）設備的生產商。白宮人工智能和加密事務主管戴維．... |
| 艾司摩爾推出全球最先進的「高數值孔徑極紫外光微影設備」，具備更高解析度與制程效率，支援2奈米及以下先進制程，成為AI與高效能運算晶片制造的關鍵工具... |
| 吳孟峰／核稿編輯〔財經頻道／綜合報導〕白宮人工智慧和加密主管戴維·薩克斯（David Sacks）周五表示，限制向中國出售極紫外（EUV）曝光機設備是美國在半導體... |
| 台積電（2330）歐洲技術論壇27日登場，期間台積電業務開發及全球業務的資深副總經理暨副共同營運長張曉強接受媒體訪問A1... |
| 台積電高層透露，仍在評估未來制程是否要使用荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding N.V.）的尖端High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光）微影設備。 |
