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申請專利:中國7納米晶片光刻技術取得突破 @ 2024-09-22T 返回 熱門新聞
關鍵詞:中國 晶片 奈米 突破
概念:納米下晶片 , 中國晶片研發技術突破
中國在先進晶片制造領域正逐漸縮小與西方的差距。位於上海的微電子裝備(集團)股份有限公司公布了一系列制造7納米及以下晶片關鍵能力的專利。
人民網北京9月15日電(方經綸)據工業和信息化部官網消息,為促進首台(套)重大技術裝備創新發展和推廣應用,加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的...
內地工信部近日宣布,研發出首台國產深紫外光曝光機(DUV),可生產8納米及以下晶片,目前正在推廣應用。 相關新聞:荷蘭ASML獲政府許可年底前繼續向中國...
最近,中共官方推廣的國產光刻機,其技術落後於荷蘭阿斯麥公司18年。學者分析,中共治下,高科技領域無法實現突破。
在美國對華科技戰的技術封鎖持續升級的背景下,中國芯片業的自主研發能力迎來新突破。近日,中國工信部宣布,成功研發出首台國產深紫外光曝光機(DUV),顯示中國已攻克技術...
Newtalk新聞中國最近高興宣稱已突破8 奈米的晶片制程,卻慘遭自家中媒打臉說晶片的精度其實只有65 奈米。 中媒《芯智訊》近日報導...
中國A股光刻機板塊18日(周三)表現亮眼,漲幅居前。 根據金融數據服務商同花順的數據,當天光刻機概念板塊上漲5.35%,領漲A股所有概念板塊。
這兩天國產光刻機的新聞的議論鋪天蓋地,事緣數天前,工信部印發《首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》通知,在重大技術裝備列表中包含了...
【彭博】0.0 中國稱,在自主晶片制造設備的開發方面取得了突破,朝著克服美國遏制其晶片雄心的制裁行動邁出重要一步。 中國工業和信息化部本月在一份公告中稱,建議國家...
中國晶片研發技術突破的相關消息近期獲得關注,傳言稱中國可生產8奈米及以下晶片,也有企業申請極紫外光(EUV)設備專利。有專家認為這樣的說法有待商榷,...

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