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| 關鍵詞：中國 晶片 奈米 |
| 概念：納米下晶片 , 中國晶片研發技術突破 |
| 中國晶片相關股票飆升，先前中國政府宣布中國本土企業在開發先進晶片制造設備方面已取得進展；中國為減輕美國主導的制裁舉措的影響做出了持續的努力，... |
| 近年美國禁止中國輸入關鍵晶片及最先進的光刻機等晶片制作工具，被中國視為是歐美在科技上的圍堵。最近中國上海微電子設備（集團）股份有限公司(SMEE)，... |
| 據彭博社報導，中國宣稱本土半導體制造設備開發取得突破、有望克服美國制裁，消息一出中國晶片相關類股紛紛大漲。 長春奧普光電漲幅突破10% 的日線限制，... |
| 人民網北京9月15日電（方經綸）據工業和信息化部官網消息，為促進首台（套）重大技術裝備創新發展和推廣應用，加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的... |
| 中國最近高興宣稱已突破8 奈米的晶片制程，卻慘遭自家中媒打臉說晶片的精度其實只有65 奈米。中媒《芯智訊》近日報導，有人一看到中國國產光刻機「套... |
| 內地官方本月發布首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄，包含了套刻等於及少於8納米的氟化氬光刻機，意味著中國可能已研發出，可生產8納米及以下芯片的... |
| 中國A股光刻機板塊18日(周三)表現亮眼，漲幅居前。 根據金融數據服務商同花順的數據，當天光刻機概念板塊上漲5.35%，領漲A股所有概念板塊。 |
| 在美國對華科技戰的技術封鎖持續升級的背景下，中國芯片業的自主研發能力迎來新突破。近日，中國工信部宣布，成功研發出首台國產深紫外光曝光機（DUV），顯示中國已攻克技術... |
| 中共工信部9月初公布的「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）」，列出全新自制DUV光刻機，分辨率為≤65nm，套刻精度≤8nm。 |
| 【彭博】0.0 中國稱，在自主晶片制造設備的開發方面取得了突破，朝著克服美國遏制其晶片雄心的制裁行動邁出重要一步。 中國工業和信息化部本月在一份公告中稱，建議國家... |