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| 关键词：中国 光刻机 |
| 概念：突破晶片 , 中国光刻机 |
| 受到美国对晶片产品与相关设备的出口管制政策影响，中国不但无法进口先进的极紫外光刻机( EUV )、深紫外光刻机( DUV )，也无法取得相关设备的维修服务，... |
| 美国对中祭出晶片禁令，中国无法取得先进曝光机（EUV），晶圆制造技术依然落后于主流先进制程，华为最先进晶片仍采用7奈米。不过最近有消息传出，中芯研发的5奈米制程“良率... |
| 美国商务部长卢特尼克接受美国CNBC采访时表示：. 美国早期的出口管制存在漏洞，只封锁了中国的EUV光刻机，导致中国企业采购了大量未限制的DUV光刻机和... |
| 在美国联手荷兰ASML对中国进行高阶半导体设备技术封锁，限制极紫外光（EUV）曝光机台输中之际，北京清华大学近日正式宣布，研究团队在EUV光阻剂材料研发上... |
| 图：中国半导体产业持续突破，自主生产芯片制程跻身全球第一梯队。 过去一段日子中国在科技领域上佳音不断，包括中国科学院上海光学精密机械研究所（上海... |
| 中国近年受美国科技制裁影响，光刻设备受进口禁令限制，中国能否自制所需要的高阶晶片受到全球关注。对此，科技力智库执行长乌凌翔在网路节目《乌鸦． |
| 美中科技角力下，各国管制光刻机出口中国，近期陆媒却高调宣传，成功制作出13.5奈米的极紫外光技术，宣扬“国产EUV光刻机重大突破”，但业内人士，... |
| 编译魏国金／台北报导〕美国科技媒体《Wccftech》21日报导，据传中国晶片制造龙头中芯国际（SMIC）已将其5奈米制程的良率提升至60%至70%之间，这标志其达到... |
| 01. 前沿导读据彭博社新闻报导指出，美国华盛顿智库安全与技术中心发布专栏报告表示，尽管中国企业在晶片制造领域取得了显着的技术进步，但是在核心的光... |
| 中国已有一台DUV（深紫外光）光刻原型机交付上海晶圆厂测试的消息，最近引发媒体关注。这台原型机虽然不是更先进的EUV（极紫外光），更还谈不上商用程度，... |