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| 关键词：中国 晶片 奈米 突破 |
| 概念：纳米下晶片 , 中国晶片研发技术突破 |
| 中国在先进晶片制造领域正逐渐缩小与西方的差距。位于上海的微电子装备（集团）股份有限公司公布了一系列制造7纳米及以下晶片关键能力的专利。 |
| 人民网北京9月15日电（方经纶）据工业和信息化部官网消息，为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的... |
| 内地工信部近日宣布，研发出首台国产深紫外光曝光机（DUV），可生产8纳米及以下晶片，目前正在推广应用。 相关新闻:荷兰ASML获政府许可年底前继续向中国... |
| 最近，中共官方推广的国产光刻机，其技术落后于荷兰阿斯麦公司18年。学者分析，中共治下，高科技领域无法实现突破。 |
| 在美国对华科技战的技术封锁持续升级的背景下，中国芯片业的自主研发能力迎来新突破。近日，中国工信部宣布，成功研发出首台国产深紫外光曝光机（DUV），显示中国已攻克技术... |
| Newtalk新闻中国最近高兴宣称已突破8 奈米的晶片制程，却惨遭自家中媒打脸说晶片的精度其实只有65 奈米。 中媒《芯智讯》近日报导... |
| 中国A股光刻机板块18日(周三)表现亮眼，涨幅居前。 根据金融数据服务商同花顺的数据，当天光刻机概念板块上涨5.35%，领涨A股所有概念板块。 |
| 这两天国产光刻机的新闻的议论铺天盖地，事缘数天前，工信部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》通知，在重大技术装备列表中包含了... |
| 【彭博】0.0 中国称，在自主晶片制造设备的开发方面取得了突破，朝着克服美国遏制其晶片雄心的制裁行动迈出重要一步。 中国工业和信息化部本月在一份公告中称，建议国家... |
| 中国晶片研发技术突破的相关消息近期获得关注，传言称中国可生产8奈米及以下晶片，也有企业申请极紫外光（EUV）设备专利。有专家认为这样的说法有待商榷，... |
