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| 关键词：中国 晶片 奈米 |
| 概念：纳米下晶片 , 中国晶片研发技术突破 |
| 中国晶片相关股票飙升，先前中国政府宣布中国本土企业在开发先进晶片制造设备方面已取得进展；中国为减轻美国主导的制裁举措的影响做出了持续的努力，... |
| 近年美国禁止中国输入关键晶片及最先进的光刻机等晶片制作工具，被中国视为是欧美在科技上的围堵。最近中国上海微电子设备（集团）股份有限公司(SMEE)，... |
| 据彭博社报导，中国宣称本土半导体制造设备开发取得突破、有望克服美国制裁，消息一出中国晶片相关类股纷纷大涨。 长春奥普光电涨幅突破10% 的日线限制，... |
| 人民网北京9月15日电（方经纶）据工业和信息化部官网消息，为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的... |
| 中国最近高兴宣称已突破8 奈米的晶片制程，却惨遭自家中媒打脸说晶片的精度其实只有65 奈米。中媒《芯智讯》近日报导，有人一看到中国国产光刻机“套... |
| 内地官方本月发布首台（套）重大技术装备推广应用指导目录，包含了套刻等于及少于8纳米的氟化氩光刻机，意味着中国可能已研发出，可生产8纳米及以下芯片的... |
| 中国A股光刻机板块18日(周三)表现亮眼，涨幅居前。 根据金融数据服务商同花顺的数据，当天光刻机概念板块上涨5.35%，领涨A股所有概念板块。 |
| 在美国对华科技战的技术封锁持续升级的背景下，中国芯片业的自主研发能力迎来新突破。近日，中国工信部宣布，成功研发出首台国产深紫外光曝光机（DUV），显示中国已攻克技术... |
| 中共工信部9月初公布的“首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）”，列出全新自制DUV光刻机，分辨率为≤65nm，套刻精度≤8nm。 |
| 【彭博】0.0 中国称，在自主晶片制造设备的开发方面取得了突破，朝着克服美国遏制其晶片雄心的制裁行动迈出重要一步。 中国工业和信息化部本月在一份公告中称，建议国家... |
