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突破欧美围堵!中国晶片公司取得 7 纳米或以下晶片关键技术 @ 2024-09-19T 返回 新闻热点
关键词:中国 晶片 奈米
概念:光刻机可生产 , 中国晶片研发技术突破
近年美国禁止中国输入关键晶片及最先进的光刻机等晶片制作工具,被中国视为是欧美在科技上的围堵。最近中国上海微电子设备(集团)股份有限公司(SMEE),...
大陆工信部9月初公布的“首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)”的通知中,列出全新自制DUV曝光机,分辨...
中国晶片相关股票飙升,先前中国政府宣布中国本土企业在开发先进晶片制造设备方面已取得进展;中国为减轻美国主导的制裁举措的影响做出了持续的努力,...
中国晶片研发技术突破的相关消息近期获得关注,传言称中国可生产8奈米及以下晶片,也有企业申请极紫外光(EUV)设备专利。有专家认为这样的说法有待商榷,...
中国工业和信息化部官网近日一项通知显示,中国已取得重大技术突破,研发出深紫外光(DUV)光刻机,可生产8纳米及以下晶片;若果属实,日后或能减少被“卡...
人民网北京9月15日电(方经纶)据工业和信息化部官网消息,为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的...
中国最近高兴宣称已突破8 奈米的晶片制程,却惨遭自家中媒打脸说晶片的精度其实只有65 奈米。中媒《芯智讯》近日报导,有人一看到中国国产光刻机“套...
台积电先进制程有新进展,亚利桑那州厂正在小量生产苹果A16处理器;2奈米晶片也提前试产,预计明年iPhone 17发表会上首度亮相。
中美科技战“卡脖子”的关键之一,便是以美日荷为主、围堵中国半导体业者取得前段晶圆制造的核心设备。一开始,美国川普政府于2019年间,从切断ASML出口...
在美国对华科技战的技术封锁持续升级的背景下,中国芯片业的自主研发能力迎来新突破。近日,中国工信部宣布,成功研发出首台国产深紫外光曝光机(DUV),显示中国已攻克技术...

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