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| 关键词：三星 |
| 概念：光刻机设计 , 台积三星 |
| 甫结束的ITF Japan 2020 大会上， 比利时半导体公司imec 公布了与ASML 合作研发的新一代高解析度EUV 光刻技术( High NA EUV Lithography) 的成果， ... |
| 对于晶片来说，决定晶片性能高低的大部分因素来源于加工设备——光刻机，其发展决定着未来电子科技产品性能... |
| 《彭博》引述南韩《先驱商业报》（Herald Business Newspaper）报导，产业人士指出三星电子（SAMSUNG ELECTRONICS）正在与荷兰晶片设备商ASML洽谈 ... |
| 三星全力冲刺先进制程，紧追台积电之际，传出关键设备极紫外光（EUV）机台独家制造商艾司摩尔（ASML）执行长Peter ... |
| 台股盘前有八大重点，包括三星盘算抢先台积电取得新一代EUV 设备，郭台铭率泛鸿海成员与桃园航空城签MOU，以及鸿海研究院量子电脑论坛即将登场，以下是 ... |
| 半导体微影设备大厂ASML搭上极紫外光（EUV）需求，2021年相关设备产能将上看45～50台。设备业者传出，台积电就抢下当中的30台，剩下的才由英特尔、 ... |
| 三星电子近期为争抢极紫外光（EUV）设备，高层频频传出密访ASML。继三星电子副会长李在镕（Lee Jae-yong）10月亲自赴荷兰拜会ASML执行长Peter ... |
| 南韩财经媒体Business Korea今天报导，全球唯一极紫外光刻机（EUV）制造商艾司摩尔（ASML）高层主管上周访... |
| 记者洪友芳／新竹报导〕南韩媒体报导，全球唯一极紫外（EUV）微影设备制造商艾司摩尔（ASML）执行长Peter Wennink上星期参访三星电子，讨论EUV设备 ... |
| ASML对于3nm、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路线规划，且1nm时代的光刻机体积将增大不少。 |
