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| 關鍵詞：英特爾 台積電 產能 設備 |
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| 林浥樺／核稿編輯〔財經頻道／綜合報導〕1奈米制程競賽提前開打，對於生產設備的需求，自然也更精進要求，但造價也是所費不貲。 |
| 英特爾宣布完成業界首台商用高數值孔徑曝光機（High NA EUV）組裝工作，外界好奇台積電對此事看法，近日台積電業務開發資深副總經理張曉強表示，... |
| 台積電（2330）主管14日透露，台積電A16先進制程節點不一定需要艾司摩爾（ASML）最新的先進晶片制造設備高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV），... |
| 根據彭博周二(14 日) 報導，半導體制造設備龍頭艾司摩爾(ASML)(ASML-US) 最大客戶之一台積電(2330-TW) 表示前者新型先進晶片制造設備價格令人望而卻步... |
| 【大紀元2024年05月15日訊】（大紀元記者侯駿霖台灣台北報導）台積電高層15日透露，台積電預定在2026下半年發布的次世代技術制程「A16」，不一定需要... |
| ASML 最新高效率EUV 曝光機的訂單被Intel 包攬：每台售價超過台幣113億元. |
| 5月8日｜據Theelec，阿斯麥(ASML)截至2025上半年的高數值孔徑EUV(High-NA EUV)設備訂單由英特爾全部包攬，因此三星和SK海力士2025下半年後才能獲得... |
| 據韓媒《TheElec》報導，ASML 截至明年上半年絕大部分高數值孔徑EUV 設備的訂單，已經由英特爾(INTC.US) 買下，包括今年計畫生產的五套設備，... |
| 台積電業務開發資深副總經理張曉強14 日表示，台積電A16 制程節點不一定要用到艾司摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV）。 |
| 韓媒報道，荷蘭半導體設備生產巨頭艾司摩爾(ASML)截至明年上半年絕大部分新一代極紫外光微影設備(High NA EUV)光刻機的訂單，全數被英特爾(Intel)買... |
